第313章 专注模式（2 / 2）
高长安之前给他的那份深紫外光刻专项报告只是一个概览，真正要想从架构层面重新设计一套光刻系统，需要吃透的东西远比那份报告里写的多。
他把目前国际主流的几套光刻技术路线重新梳理了一遍。
193纳米浸没式光刻是目前应用最成熟的方案，靠的是深紫外雷射器加浸没液体提高数值孔径，再通过多重曝光和计算光刻来弥补解析度的不足。
这套方案的极限解析度大概在38纳米左右，再往下走就进入euv的领地了。
极紫外光刻用的是13.5纳米波长的光源，理论上可以把解析度直接推到几纳米的量级，但是euv光源的功率和稳定性一直都是瓶颈，从锡等离子体產生极紫外光的效率极低，大部分能量都变成了废热，真正能打到晶圆上的有效光功率少得可怜。
再加上euv光路必须在真空中传输，所有反射镜都必须是多层鉬硅镀膜的超精密曲面镜，加工难度和成本都是天文数字。
肖宿把这些技术路线的底层物理限制在脑子里过了一遍，目光落在一个关键点上。
不管是193浸没式还是euv，它们的光源、物镜、工件台都是独立设计、独立优化、再拼在一起联调的。
这种串行架构天然存在一个无法根除的缺陷，也就是每个子系统在设计的时候都是假设其他子系统处於理想状態，但实际情况是谁都不理想，偏差就在接口上互相叠加放大了。
如果从一开始就把光源、物镜、工件台作为一个统一的耦合系统来设计呢？
用同一个全局优化框架去描述三个子系统的所有自由度，让它们在设计阶段就实现协同最优，而不是造出来之后再联调磨合。
这个想法在脑子里一浮现，肖宿几乎是本能地开始往下推。
这套新架构的核心需要一个比谱域对消更底层的数学框架，因为谱域对消解决的还只是单个子系统內部的优化问题。
而要把光源的波前整形、物镜的波像差补偿、工件台的动態定位误差这三样东西统一到一个优化空间里，需要的是一套能同时描述光场传播、光学传递函数和机械运动学的全局耦合函数。 ↑返回顶部↑
他把目前国际主流的几套光刻技术路线重新梳理了一遍。
193纳米浸没式光刻是目前应用最成熟的方案，靠的是深紫外雷射器加浸没液体提高数值孔径，再通过多重曝光和计算光刻来弥补解析度的不足。
这套方案的极限解析度大概在38纳米左右，再往下走就进入euv的领地了。
极紫外光刻用的是13.5纳米波长的光源，理论上可以把解析度直接推到几纳米的量级，但是euv光源的功率和稳定性一直都是瓶颈，从锡等离子体產生极紫外光的效率极低，大部分能量都变成了废热，真正能打到晶圆上的有效光功率少得可怜。
再加上euv光路必须在真空中传输，所有反射镜都必须是多层鉬硅镀膜的超精密曲面镜，加工难度和成本都是天文数字。
肖宿把这些技术路线的底层物理限制在脑子里过了一遍，目光落在一个关键点上。
不管是193浸没式还是euv，它们的光源、物镜、工件台都是独立设计、独立优化、再拼在一起联调的。
这种串行架构天然存在一个无法根除的缺陷，也就是每个子系统在设计的时候都是假设其他子系统处於理想状態，但实际情况是谁都不理想，偏差就在接口上互相叠加放大了。
如果从一开始就把光源、物镜、工件台作为一个统一的耦合系统来设计呢？
用同一个全局优化框架去描述三个子系统的所有自由度，让它们在设计阶段就实现协同最优，而不是造出来之后再联调磨合。
这个想法在脑子里一浮现，肖宿几乎是本能地开始往下推。
这套新架构的核心需要一个比谱域对消更底层的数学框架，因为谱域对消解决的还只是单个子系统內部的优化问题。
而要把光源的波前整形、物镜的波像差补偿、工件台的动態定位误差这三样东西统一到一个优化空间里，需要的是一套能同时描述光场传播、光学传递函数和机械运动学的全局耦合函数。 ↑返回顶部↑