第488章 看吧,是你勾引我(2 / 3)

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  卡森指着电脑:“许教授,上周的数据处理好了。”
  “辛苦。”
  许青舟点头,查看实验数据。
  卡森负责数据清洗,去除异常值,或者采用插值法填补缺失值,孙思敏和马尔斯就负责些简单工作,对数据进行统一化,分类编码。
  马尔斯忍不住说道:“教授,我看院报,詹姆士团队已经完成了第三轮实验,他们已经通过原子层沉积(ald)设计,预计成品实现界面缺陷密度降低90%,量子比特的弛豫时间提升至500微秒,退相位时间突破200微秒。”
  “哦,挺厉害。”许青舟微微点头。
  “就没了?”马尔斯挠头,看起来教授一点都不慌啊。
  许青舟想了想,点头,沉声说道:“能和这样的团队做对手,这完全证明我们也很厉害。”
  “.”
  孙思敏和马尔斯相视一眼,这样一想,貌似他们这个团队真的挺厉害。
  “这份公告,是给项目管理办公室,投资方看的,当然,同样是给我们看的。”
  卡森转着办公椅,给自己倒了杯水,又回到位置上,很有经验地继续说道:“搞科研就像吃巧克力一样,你永远不知道下一块是什么味道。”
  不少课题组都埋头在这个前沿领域,看到这个消息自然会有压力,有的奋起直追,但其中也不乏直接放弃,甚至把自己实验数据打包送给领先课题组的,换取一个挂名的机会。
  这就叫及时制止。
  免得辛辛苦苦一年,发现自己的课题早就被其他人做出来了。
  “欧克,为了表示对强大对手的尊重,你们俩应该看书了。”许青舟敲敲桌子说。
  孙思敏和马尔斯点点头,低头继续看笔记。
  这头,许青舟也把目光放到电脑屏幕上,看a08号样品的数据。
  这一个月时间,他们基本都在做先导试验,验证石墨烯基底能否承受ald沉积温度,测试金属的ald生长可行性。
  非常基础的工作,就好比建大厦前,选择和测试不同的砖块,钢筋和水泥。
  a07号样品的问题,电化学剥离(fecl)时薄膜撕裂或褶皱,导致后续ald沉积基底不平整。
  经过试验,他们最终采用双层pmma保护,先旋涂300 nm pmma,再覆盖50 nm pdms增强机械强度。
  最后,再用低电压剥离,电压≤1 v,电解液温度控制在25±2°c,以此来减少应力损伤。
  “嗯,撕裂问题搞定了。”
  许青舟目光扫过一排排数据,满意点头,可10分钟过去,他视线停下。
  【eds显示nb:sn = 3.5:1± 0.2。】
  “nb:sn原子比偏离±17%。”
  许青舟向后靠在椅子上,揉了揉太阳穴。
  “是的,临界温度从理论18 k降至15 k,4.2 k/12 t下临界电流密度仅5x10 a/cm。”
  卡森无奈地说道:“除了这点,等离子体还原效率不足,h等离子体功率80 w时,sn占比仅80%,残留sno导致超导相纯度降至70%。” ↑返回顶部↑

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