第671章 第二步:覆海!破晓 A220 EUV光刻机(2 / 5)

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  显示屏上,代表光路内部真空度的数字,呈现断崖式的下跌趋势:0.01 pa、0.0001 pa、0.000001 pa,向着高真空迈进。
  所有人的心都提到了嗓子眼!
  极致的真空环境是euv光源传输的前提,任何一个微小的泄漏,都会导致前功尽弃。
  不知过了多久!
  汪象朝突然大声喊道:“真空度稳定在0.0000006帕斯卡!已达预设值!”
  控制室内响起一阵轻微的、克制的骚动,有人轻轻握了握拳。
  第一步,成功了!
  为什么euv光刻机的光源系统、主腔体中的照明光学系统、成像光学系统、晶圆平台模组、掩模搬运模组和晶圆搬运模组都得处于真空环境下?
  这是因为euv光波长极短,极易被包括空气在内的所有物质吸收。
  在真空环境中,可最大限度减少气体分子对euv光的吸收和散射,从而确保光源能量能有效传输至后续光学系统。
  若处于非真空环境,euv光会在传输过程中大幅衰减,无法满足光刻所需的能量强度。
  这一模块的核心技术,是由章延杰牵头,联合几十名沈阳光机所的工程师共同攻关拿下的。
  因此,他比任何人都紧张,生怕出现纰漏,拖了团队的后腿。
  “启动光源预热,功率设定为最低档位。”
  陈延森语气平静地宣布下一道指令。
  令人紧张的时刻到来!
  这是星源科技驯服的第一头猛兽——磁约束放电激发等离子体光源(mcde-euv光),即将被唤醒!
  如果一切正常,它将用“电磁场”代替“激光”作为激发和约束等离子体的手段,进而获得微弱的、波长为13.5纳米的极深紫外光。
  时间一分一秒地过去。
  主监控屏上,一个原本平坦的基线,微微跳动了一下。
  随后,一个虽然微弱但清晰可辨的信号峰值,顽强地升了起来!
  “有信号了!”一名年轻的研究员忍不住地喊了出来,声音因激动而变得有些失真。
  大家心里清楚!
  第一台euv光刻机对华国的重大战略意义!
  几乎在同一时间,位于光路末端的euv功率探测器,传回了第一条数据:107瓦!
  一个在asml看来早已被甩在身后的数字,此刻却让整个控制室陷入了短暂的寂静,随即爆发出巨大的欢呼声!
  许多人下意识地拥抱在一起,眼眶瞬间红了。
  林南感觉自己的手都在微微颤抖,于是紧紧抓住栏杆,强迫自己冷静下来。
  陈延森倒是心态平稳,他抬手压了压,控制室里的欢呼声很快平息。
  “提高功率档位!”陈延森继续说道。 ↑返回顶部↑

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